• Purchaser

    Debreceni Egyetem

  • Publication date

    Sep 18, 2018

  • Type

    1

  • Value Awarded

    244m Ft

  • Source

    EKR

    1 db Fókuszált ionnyalábos megmunkáló berendezés (Dual Beam): Dual Beam alatt Ajánlatkérő azt érti, hogy a készülék alkalmas pásztázó elektronmikroszkóp vizsgálatokra (SEM) valamint fókuszált ionnyalábos megmunkálásra (FIB). Elektron forrás: Schottky téremissziós forrás (gyorsítófeszültség 500 V - 30 kV, elektronnyaláb áram (1pA-legalább 100nA) mind képalkotási, mind analízis üzemmódban, alacsony vákuumú (~500Pa) működés is, elektronoptikai rendszerbe épített, elektrosztatikus gyorsítócső, a minta kis feszültségen, nagy felbontásban történő vizsgálata céljából (“beam-booster”), detektorok A rendszer rendelkezzen fókuszált Ga-ionsugaras berendezéssel (FIB) gyorsítófeszültség: 500 V - 30 kV, nyalábáram 10 pA - legalább 65 nA, a FIB felbontása legalább 3 nm 30 kV gyorsítófeszültségnél, stabil ionnyaláb működés kis gyorsítófeszültségnél (~500V) is, a TEM-lamellák polírozásához, garantált működési idő legalább 2600µAh) Jótállás: minimum 24 hónap teljes körű jótállás. A szoftver legyen homogén az analitikai transzmissziós elektronmikroszkóphoz beszerzendő EDS szoftverével. 1 db Transzmissziós elektronmikroszkóp átalakítása analitikai elektronmikroszkóppá: A Debreceni Egyetem kezelésében lévő JEOL 2000FX-II TEM mikroszkóphoz való illesztéshez (nagy szögű port) . EDS rendszer: - Az SDD chip felülete min. 30 mm, folyékony nitrogén nélküli használat, Detektor felbontása <= 126 eV Mn Kα, Detektor felbontása <=51eV C Kα-nál, maximális beütésszám > 1,500,000 cps. A berendezés szoftvere homogén legyen a FIB berendezés EDS rendszerének szoftverével. Ajánlatkérő arra tekintettel nem biztosítja a részekre történő ajánlattételt a két eszköz esetében, mert a kutatás céljainak figyelembevételével a projekt szempontjából elengedhetetlen, hogy a két eszköz szoftvere homogén legyen egymással. A kapott eredmények és minták felhasználása, a velük való további feladatok elvégzése során szükséges, hogy mind a két eszköz képes legyen szoftver kompatibilitási problémák nélkül azonos mintán dolgozni.A FIB/SEM berendezéssel mintákat készítünk a TEM berendezéshez. A megmunkálás során és végeztével nagyszámú előzetes mérést végzünk a mintákon, többek között kémiai összetétel meghatározást is. A TEM berendezésbe helyezve a mintákat, ezeket a méréseket kiegészítjük, másrészt finomítjuk. A mérőrendszerek szoftverének kompatibilitása egyrészt összevethetővé teszi a két különböző berendezéssel mért eredményeket, valamint gyorsabbá, hatékonyabbá válik a mérés folyamata. A nyertes ajánlattevő feladata az eszközök csomagolása, szállítása a teljes rendszer üzembe helyezése, szerelése, installálása és a rendszer használatának betanítása az üzembe helyezés helyszínén a műszaki leírásban részletezettek szerint. Jótállás: 24 hónap teljes körű jótállás. Az eszközökre vonatkozó betanítás: Nyertes ajánlattevő köteles a fókuszált ionnyalábos megmunkáló berendezés esetén 2 x 8 óra időtartamban; a transzmissziós elektronmikroszkóp esetén 1 x 8 óra időtartamban az alapvető elemek és funkciók használatának oktatására az installálás során. Nyertes ajánlattevő köteles továbbá 5 x 8 óra időtartamban további oktatást tartani a haladottabb FIB/SEM funkciók és lehetőségek használatáról, majd 3 x 8 óra időtartamban helyi oktatást tartani az EDX/EBSD rendszer használatáról. További információk lásd: VI.4.3) pontban!

    Awards

    Notices

    • Sep 17, 2018

      Invitation to participate

    • Oct 19, 2018

      Correction

    • Nov 1, 2018

      Correction

    • Feb 17, 2019

      Information on the outcome of the procedure

    SZERZODESSEL_KAPCSOLATOS_INFORMACIOK_BLOKK

    Összegezés az ajánlatok elbírálásáról

    EGYEB_DOKUMENTUM_BLOKK