• Purchaser

    ELI-HU Nonprofit Kft.

  • Publication date

    Dec 18, 2018

  • Type

    1

  • Value Awarded

    144.9m Ft

  • Source

    EKR

    A teljes kiépítésben, minden további kiegészítő nélkül alkalmasnak kell lennie SEM üzemmódban másodlagos és visszaszórt elektron ( SE és BE) felvételek készítésére, valamint rendelkezzen pásztázó transzmissziós elektronmikroszkópiai (STEM) üzemmóddal. FIB üzemmódban alkalmasnak kell lennie nanomegmunkálásra külső fájlok alapján is (pl.: .bmp, .gdsII), Pt-leválasztásra és legfeljebb 20 nm vastag, műtermék mentes TEM-lamella készítésére. Követelmények: • termikusan segített téremisszión alapuló Schottky-emitter elektronforrás (0,35 keV-30 keV sugárenergia; maximális sugáráram legalább 100 nA) • nem-immerziós elektron optika, mágneses minták vizsgálatát lehetővé tevő elektrosztatikus lencse • SE térbeli képfelbontás optimális mintatávolságnál, minta előfeszítés nélkül legalább: STEM 0,9 nm 30 keV-en, SEM 2,0 nm 1 keV-en (vagy jobb, azaz ennél kisebb érték) • pásztázási sebességtartomány: minimum 25 ns/pixel - 10 ms/pixel, drift korrekció lehetősége mind SEM, mind FIB üzemmódban • Ga-ion ágyú (0,5 keV-30 keV; maximális sugáráram legalább 65 nA) legalább 1000 (egyezer) üzemóra élettartammal • FIB-képen elérhető térbeli felbontás: legalább 3,0 nm (vagy ennél jobb, azaz kisebb érték), • olajmentes vákuumrendszer • mintakamrába integrált plazma-tisztító • minimálisan x=y =100 mm; z=50 mm motorizált mozgatást lehetővé tevő eucentrikus mintaasztal, legalább öttengelyű, motorizált mintamozgatással, -4 °-70° közti döntést és 0°-360° közti forgatást biztosítva legalább 12 mm x 12 mm-es, illetve annál nagyobb mintákra • mintatartó TEM lamellákhoz • áramkimaradás ellen védő rendszer (szünetmentes tápegység) • a mintakamrát mutató kamera • integrált áram mérés ( akár elektron-, akár ion-áram mérése) • a műszernek alkalmasnak kell lennie TEM-lamella készítésére o gázbevezető Pt-leválasztáshoz o nanomanipulátor, amelynek alkalmasnak kell lennie a TEM-lamella kivételére o STEM detektor • a rendszerhez tartozó szoftver lehetővé teszi az ionnyalábbal történő megmunkálás folyamatának megtervezését a kialakítandó struktúrák paramétereinek figyelembevételével (a rendszert vezérlő számítógéptől eltérő számítógépen is), vezérli az ionnyalábos nanomegmunkálási eljárást, illetve az elektronmikroszkópos képalkotást • üzembe helyezés a gyári és a helyszíni installáláshoz kapcsolódó átvételi tesztekkel (FAT és SAT) igazolt módon. Az átvételi tesztek tartalma: maximális felbontást demonstráló mintázat ionnyalábbal történő írása, TEM-lamella készítésének demonstrálása, minta vágás demonstrálása legalább 2 felhasználó által biztosított minta esetén. • betanítás, kalibrálás, karbantartás, szoftverfrissítés a minimálisan vállalandó 24 hónap jótállási időszak ideje alatt A műszaki leírás szerinti betanítási szolgáltatást 2x8 órás időkeretben 3 fő részére kell nyújtani.

    Awards

    Notices

    • Dec 18, 2018

      Invitation to participate

    • Apr 23, 2019

      Correction

    • Oct 16, 2019

      Information on the outcome of the procedure

    Összegezés az ajánlatok elbírálásáról

    SZERZODESSEL_KAPCSOLATOS_INFORMACIOK_BLOKK